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供应海德汉光栅尺

供应海德汉光栅尺

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  • 地   址:
    北京 丰台区 北京市丰台区南四环西路186号一区1号楼6层50-51室
种类:位移加工定制:是制作工艺:厚膜
品牌:海德汉型号:bm11输出信号:模拟型
分辨率:1nm材质:金属材料晶体结构:多晶
材料物理性质:半导体

供应海德汉光栅尺详细介绍

敞开式直线光栅尺

直线光栅尺测量直线轴位置过程期间没有

任何其它机械传动件。因此,它能消除以

下潜在误差源:

??滚珠丝杠温度特性导致的定位误差

??反向误差

??滚珠丝杠螺距误差导致的运动特性误差

因此,直线光栅尺已成为高精度定位和高

速加工不可或缺的***条件。

敞开式直线光栅尺设计用于需要高精度测

量的机床和系统。典型应用包括:

??半导体工业的测量和生产设备

?? PCB电路板组装机

??超精密机床,例如加工光学元件的金刚

石刀具,加工磁盘端面车床和加工铁氧

体元件的磨床

??高精度机床

??测量机和比较仪,测量显微镜和其它精

密测量设备

??直接驱动

机械结构

敞开式直线光栅尺包括光栅尺或钢带光栅

尺和读数头,光栅尺和读数头间无机械接

触。

敞开式直线光栅尺的长光栅直接固定在安

装面上。安装面的平面度直接影响直线光

栅尺精度。


以下产品信息

??高质量扫描式角度编码器

??带内置轴承角度编码器

??无内置轴承角度编码器

??模块式磁栅编码器

??旋转编码器

??伺服驱动用编码器

??NC数控机床用直线光栅尺

??接口电子电路

??海德汉数控系统

***精度

LIP敞开式直线光栅尺的特点是测量步距

非常小、精度和重复精度非常高。 扫描方

式为干涉扫描,测量基准为DIADUR相位

光栅(LIP 281:OPTODUR相位光栅)。

高精度

LIF敞开式直线光栅尺的测量基准是

SUPRADUR玻璃基体光栅,用干涉扫描方

法。特点是精度和重复精度高,安装简

单,有限位开关和回零轨。 特殊型号的

LIF 481 V可用于10–7bar的真空环境中

运动速度快

LIDA敞开式直线光栅尺特别适用于运动速

度达10 m/s的高速运动应用,支持多种安

装方式,安装简单。根据相应应用要

求,METALLUR光栅的基体可为钢带,玻

璃或玻璃陶瓷。 也可有限位开关。

二维光栅尺

PP双坐标编码器的测量基准是一个平面

DIADUR相位光栅,干涉扫描方式。 用于

测量平面中位置。

测量原理

测量基准

海德汉公司的光学扫描型光栅尺或编码器

的测量基准都是周期刻线-光栅。

这些光栅刻在玻璃或钢材基体上。 大长度

测量用的光栅尺基体为钢带。

海德汉公司用特别开发的光刻工艺制造精

密光栅。

?? AURODUR: 在镀金钢带上蚀刻线条,

典型栅距40 μm

??METALLUR: 抗污染的镀金层金属线,

典型栅距20 μm

??DIADUR: 玻璃基体的超硬铬线(典型

栅距20 μm)或玻璃基体的三维铬线格

栅(典型栅距8 μm)

?? SUPRADUR相位光栅: 光学三维平面

格栅线条,***抗污能力,典型栅距不

超过8 μm

??OPTODUR相位光栅: 光学三维平面格

栅线条,***反光性能,典型栅距不超

过2 μm

这种方法除了能刻制栅距非常小的光栅

外,而且它刻制的光栅线条边缘清晰、均

匀。 再加上光电扫描法,这些边缘清晰的

刻线是输出高质量信号的关键。

母版光栅

测量法

测量法是指编码器通电时就可立即得

到位置值并随时供后续信号处理电子设备

读取。 无需移动轴执行参考点回零操作。

位置信息来自光栅码盘,它由一系列

码组成。 单独的增量刻轨信号用于细

分处理后得到位置值,同时也能生成供选

用的增量信号(与接口类型有关)。

增量测量法

增量测量法的光栅由周期性刻线组成。位

置信息通过计算自某个原点开始的增量数

(测量步距数)获得。由于必须用参

考点确定位置值,因此光栅尺上还刻有一

个参考点轨。参考点确定的光栅尺位

置值可以***到一个测量步距。

必须通过扫描参考点建立基准点或确

定上次选择的原点。

有时,这需要机床运动行程达到测量范围

的较大部分。为加快和简化“参考点回

零”操作,许多光栅尺刻有距离编码参考

点,这些参考点彼此相距数学算法确定的

距离。 移过两个相邻参考点后,后续电子设备就

能找到参考点位置。

光电扫描

大多数海德汉公司光栅尺或编码器都用光

电扫描原理。对测量基准的光电扫描为非

接触扫描,因此无磨损。这种光电扫描方

法能检测到非常细的线条,通常不超过几

微米宽,而且能生成信号周期很小的输出

信号。

测量基准的栅距越小,光电扫描的衍射现

象越严重。 海德汉公司的直线光栅尺采用

两种扫描原理:

??成像扫描原理用于10 μm至200 μm的栅

距。

??干涉扫描原理用于4 μm甚至更小栅距的

光栅。

成像扫描原理

简单地说成像扫描原理是用透射光生成信

号: 两个具有相同或相近栅距的光栅尺光

栅和扫描光栅彼此相对运动。 扫描掩膜的

基体是透明的,而作为测量基准的光栅尺

可以是透明的也可以是反射的。

当平行光穿过一个光栅时,在一定距离处

形成明/暗区。具有相同或相近栅距的扫描

光栅就在这个位置处。当两个光栅相对运

动时,穿过光栅尺的光得到调制。如果狭

缝对齐,则光线穿过。 如果一个光栅的刻

线与另一个光栅的狭缝对齐,光线无法通

过。光电池将这些光强变化转化成电信

号。 特殊结构的扫描掩膜将光强调制为近

正弦输出信号。栅距越小,扫描光栅和光

栅尺间的间距越小,公差越严。如果成像

扫描编码器的栅距为10 μm或更大,编码

器的安装公差相对宽松。

LIC和LIDA系列直线光栅尺为成像扫描。


详情请联系北京艾玛特科技有限公司销售工程师:

于洪超

15801124623/18626873923

hongchao_yu@foxmail.com



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